Die 1200-PO-duo ist Satislohs vielseitigste Dünnschichtbeschichtungsplattform, entwickelt für höchste Beschichtungspräzision bei einer breiten Palette optischer Materialien und Beschichtungsdesigns. Dank flexibler Konfigurationsmöglichkeiten lässt sich das System exakt auf individuelle Anwendungsanforderungen abstimmen – ob in Bezug auf Beschichtungskomplexität, thermische Empfindlichkeit oder Durchsatz.
Fortschrittliche Elektronenstrahlkanonen in Kombination mit vielseitigen thermischen Verdampfungsquellen ermöglichen eine Vielzahl anspruchsvoller, komplexer Mehrschichtbeschichtungen mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit. Integrierte Prozesssteuerung, optisches Monitoring und ein Planeten-Heizsystem gewährleisten stabile Prozessbedingungen und gleichbleibende Beschichtungsqualität. Verschiedene Substrathalterkonfigurationen, darunter Planeten- und Sektordome-Optionen, bieten hohe Prozessflexibilität, da sie ein breites Spektrum an Substraten und Beschichtungsprozessen abdecken.
Die Konfiguration mit zwei Elektronenstrahlkanonen ermöglicht die gleichzeitige Verwendung unterschiedlicher Materialien mit hohem und niedrigem Brechungsindex und unterstützt komplexe Beschichtungsdesigns bei minimalen Stillstandszeiten. Die intelligente Shutter-Synchronisation verhindert Kreuzkontaminationen und optimiert die Schichtübergänge für schnellere und sauberere Prozesse.
3CK-EB-Kanone mit einer Kammer:
3CK-EB-Kanone mit mehreren Kammern:
Mit Wellenlängenbereichen von 300 bis 2400 nm sowie Transmissions- und Reflexionsmessmodi gewährleistet das integrierte optische Monitoringsystem eine präzise Schichtbeendigung. Automatisiertes Testglashandling und eine nahtlose Softwareintegration sorgen auch bei hochanspruchsvollen Beschichtungsspezifikationen für zuverlässige Ergebnisse. Rezepte können flexibel zwischen optischem und quarzkristallbasiertem Monitoring wechseln, sodass Geschwindigkeit und Präzision innerhalb einer Prozesssequenz optimal kombiniert werden.
Die integrierte Ionenunterstützung mit Kaltplasma sorgt für eine hervorragende Schichtverdichtung und ist dabei besonders schonend für temperaturempfindliche Substrate. Die äußerst geringe und präzise kontrollierte Substraterwärmung macht das System ideal für polymere und andere empfindliche Materialien.
Der Temperaturanstieg durch Plasma beträgt während der Vorreinigung unter 2 °C und unter 50 °C bei maximaler Leistung.
Ein einzigartig positionierter Planetary-Heizer hinter der Uniformitätsmaske bringt die Substrate schnell und präzise auf Prozesstemperatur, während der Energieverbrauch bemerkenswert niedrig bleibt. Das Heizsystem vermeidet unnötiges Erwärmen irrelevanter Komponenten, verbessert die thermische Homogenität auf den Substraten und minimiert zudem Temperaturabweichungen, verkürzt die Aufheizzeiten und gewährleistet zuverlässige thermische Bedingungen für anspruchsvolle Beschichtungsprozesse wie dichte Oxidschichten, ionenunterstützte Beschichtungen oder temperaturempfindliche Mehrschichtstapel.
Interne Tests zeigen eine Gleichmäßigkeit von ± 1,0 % bezogen auf die Zentralwellenlänge (CWL).
Die Tests wurden mit einem Schmalbandfilter bei 2 Durchläufen und 2 Planeten, mit jeweils 3 Proben pro Planet, durchgeführt.
Die Schichtbeendigung erfolgte wahlweise mittels optischem Monitoring oder mittels Quarzkristall zur Schichtterminierung. Die Auswahl kann für jede Schicht individuell festgelegt werden.
| Materialien: | Kunststoffe, Glas und kristalline Optiken |
| Abmessungen: | 2171 x 3145 x 2440 mm / 86 x 124 x 96 in |
| Planetenkapazität: | 5 Planeten – jeweils 15 Zoll Durchmesser |
| Kapazität der Sektorkuppel: |
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Alle technischen Daten können ohne Vorankündigung geändert werden. Bitte klären Sie die Details mit Satisloh ab.
