La 1200-PO-duo es la plataforma de recubrimiento de película fina más versátil de Satisloh, fabricada para ofrecer la máxima precisión de recubrimiento en una amplia gama de materiales ópticos y diseños de recubrimiento. Gracias a la configuración flexible de sus componentes, los usuarios pueden adaptar el sistema con precisión a las necesidades y prioridades de su aplicación, ya sea en cuanto a la complejidad del recubrimiento, la sensibilidad térmica o el rendimiento.
Los cañones de haz de electrones avanzados, combinados con fuentes versátiles de evaporación térmica, permiten obtener una amplia gama de recubrimientos multicapa sofisticados y complejos con excelente uniformidad y reproducibilidad. El control integrado del proceso, el monitoreo óptico y un calentador planetario garantizan condiciones de proceso estables y una calidad de recubrimiento constante. Existen varias configuraciones de soportes para sustratos, incluidas opciones planetarias y de cúpula sectorial, que brindan una gran flexibilidad en el proceso al adaptarse a una amplia variedad de sustratos y procesos de recubrimiento.
La configuración de doble haz de electrones permite el uso simultáneo de múltiples materiales de alto y bajo índice, lo que facilita diseños de recubrimiento complejos con un tiempo de inactividad mínimo. La sincronización inteligente del obturador evita la contaminación cruzada y optimiza las transiciones entre capas para lograr procesos más rápidos y limpios.
Pistola EB 3CK de un solo compartimento:
Pistola EB 3CK de múltiples cavidades:
Con rangos de longitud de onda de 300 a 2400 nm y modos de monitorización tanto de transmitancia como de reflectancia, el sistema de monitorización óptica integrado garantiza una terminación precisa de las capas. La manipulación automatizada de los cristales de prueba y la perfecta integración del software ofrecen resultados fiables incluso para especificaciones de recubrimiento muy exigentes. Las recetas pueden alternar sin problemas entre la monitorización óptica y la de cristal, lo que permite a los usuarios combinar velocidad y precisión en una única secuencia de proceso
La asistencia iónica integrada con plasma frío proporciona una excelente densificación del recubrimiento, al tiempo que es respetuosa con los sustratos sensibles a la temperatura. El calentamiento del sustrato, extremadamente bajo y bien controlado, lo hace ideal para sustratos poliméricos y otros sustratos sensibles.
Aumento de temperatura debido al plasma inferior a 2 °C durante la prelimpieza, inferior a 50 °C a potencia máxima
Un calentador planetario situado de forma única detrás de la máscara de uniformidad lleva los sustratos a la temperatura de funcionamiento de forma rápida y precisa, al tiempo que mantiene un consumo energético notablemente bajo. Evita el calentamiento innecesario de componentes no relevantes, mejora la homogeneidad térmica en los sustratos y también minimiza las desviaciones de temperatura, reduce los tiempos de aceleración y garantiza condiciones térmicas fiables para procesos de recubrimiento exigentes, como capas de óxido densas, recubrimientos asistidos por iones o apilamientos multicapa sensibles a la temperatura.
Las pruebas internas muestran una uniformidad dentro de un margen de +/- 1,0 % de la CWL.
Prueba realizada con un filtro de paso de banda estrecha en 2 series y 2 planetas, con 3 muestras por cada planeta.
Realizadas utilizando monitorización óptica o cristal de cuarzo para la terminación de capas. La elección se puede configurar para capas individuales.
| Materiales: | plástico, vidrio y óptica cristalina |
| Dimensiones: | 2171 x 3145 x 2440 mm / 86 x 124 x 96 pulgadas |
| Capacidad planetaria: | 5 planetas - 15 pulgadas de diámetro cada uno |
| Capacidad de la cúpula sectorial: |
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