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联系表

安全可靠

  • 完全密闭的透明盖工作区，可防止空气粉尘的污染
  • 内置去离子水生产（反渗透膜、混床树脂、活性炭过滤器）
  • 配备可调节的提拉系统和带加热的全自动清洗烘干工艺（手动装卸）

环保

  • 洗涤剂和水的消耗量低
  • 自来水消耗量低

容易使用、灵活

  • 紧凑型即插即洗系统
  • 可安装在无尘间
Industrial semiconductor processing machine with control panel and integrated wafer bath system.
Semiconductor wafers held in a metal rack being processed inside a chemical bath container.
Multiple semiconductor wafers held in a rack being lowered into a chemical bath within a processing station.
Close-up of semiconductor wafers aligned in a metal rack during chemical bath processing.

技术规格

产能：

每8小时班次可达576个镜片
尺寸(宽x深x高)：

1500 x 800 x 1300 毫米 / 59 x 32 x 51 英寸
重量： 340 千克 / 750 磅

所有技术数据如有更改，恕不另行通知。请与Satisloh核实细节。

文件

超声波镜片清洗机（宣传册）
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